它不是下一個阿斯麥，而是中國半導體生態系統的“造山者”。

作者｜王藝

編輯｜王博

這兩天，全球半導體行業的目光聚焦深圳會展中心。

10月15日到10月17日，2025灣區半導體產業生態博覽會（簡稱“灣芯展”）舉行。來自全球20多個國家超600家企業及知名院校機構參展，展商涵蓋了晶圓制造、先進封裝、IC設計和化合物半導體等重點領域。

不過，最熱門的展商是一家國產半導體公司——新凱來。

新凱來展位，圖片來源：灣芯展

作為本土半導體設備以及零部件領域的黑馬，新凱來此前已經引發轟動。

2025年3月26日，在全球規模最大的半導體行業展會SEMICON China 2025上，新凱來展示了31款新發布且實現量產的半導體設備，主要分為工藝裝備、量檢測裝備兩大系列，產品型號包括擴散產品、薄膜產品、光學檢測產品、光學量測產品等，幾乎覆蓋了半導體制造全流程裝備，引發行業的廣泛關注。

就在本屆灣芯展開展前夕，市場上傳言新凱來將展出“5nm光刻機設備”，直接拉滿了行業期待。

這種期待并非“天方夜譚”，上個月舉辦的華為全聯接大會2025上，華為公開了昇騰未來三年的迭代路線圖，計劃在2026年第一、第四季度分別推出昇騰950PR及950DT，在2027年第四季度推出昇騰960，在2028年第四季度推出昇騰970，全面對標英偉達。

不過，這次新凱來在灣芯展上并未發布外界盛傳的“5nm光刻機設備”，但是這并不影響其火熱的人氣。

「甲子光年」了解到，新凱來在本屆灣芯展上帶來了兩大重磅發布：

• 新凱來子公司啟云方首次向業界發布了兩款擁有完全自主知識產權的國產電子工程EDA（原理圖和PCB）設計軟件，填補了國產高端電子設計工業軟件技術空白；

• 新凱來子公司萬里眼發布了90GHz帶寬的超高速實時示波器。該新產品極大提升了國產示波器帶寬，僅次于國際上最高的110GHz，全球第二，國內唯一，打破了西方《瓦森納協定》封鎖，是全球首個超高速智能示波器、全球首個全面屏示波器。

新凱來展位，圖片來源：灣芯展

這標志著中國在EDA與高端測試測量兩大“卡脖子”環節實現了從“可用”到“領先”的跨越，也意味著新凱來正構建一個從設計到驗證的全棧自主電子工程生態，推動中國電子產業從“造芯”走向“造系統”的新階段。

新凱來的產品不僅展現了國內半導體設備研發技術的進步，其發展路徑也折射出了深圳推動半導體設備自主化的實踐方向，并成為我們觀察國內半導體產業突圍進程的一個縮影。

而這家公司，僅成立四年。

1.新凱來的前世今生

要了解新凱來舉足輕重的地位，首先要從中國的半導體設備說起。

半導體設備分為兩種，分別是占比88.3%的半導體前道晶圓設備和占11.7%的半導體后道封測設備。行業里討論比較多的是前道晶圓設備，包括光刻機（占17%）、刻蝕機（占22%）、薄膜沉積設備（占22%）、量檢測設備（占12%）、擴散設備、涂膠顯影設備等。

在國內市場，很少有公司可以全面覆蓋所有設備，一般都是深耕細分行業。但是新凱來不一樣，它僅用了四年多時間，就一口氣展示了擴散、刻蝕、薄膜沉積、量檢測共四大類半導體設備，涵蓋EPI、RTP、ICP/CCP、PVD、CVD、PEALD/Thermal ALD、明場/暗場/無圖形/掩模版檢測、套刻精度量測等細分工藝。

換句話說，新凱來已經可以生產除EUV光刻機之外半導體產業鏈上的所有設備。

圖片來源：新凱來官網

這簡直就是市場奇跡般的存在。

除了上述設備，新凱來在光刻機領域也做了布局，內部代號“珠穆朗瑪峰”，這也是大家如此期待新凱來在此次灣芯展上發布光刻機的原因——市場猜測該光刻機或將繞過阿斯麥（ASML）的封鎖，突破5nm制程，從而在國產替代的道路上前進一大步。

新凱來的誕生有著特殊的時代背景，據《證券時報》、C114通信網等媒體披露，新凱來的前身是華為2012實驗室下屬的“星光工程部”。

但需要說明的是，截至目前，尚無官方公開文件證實此事。

2018年前后，面對國際供應鏈風險上升的局面，任正非在白板上寫下“生存的關鍵”，發起“備胎計劃”，華為內部的“星光工程”就此啟動。星光工程匯聚了華為頂尖人才，積累了20年技術儲備，聚焦半導體制造設備的自主研發——包括擴散爐、薄膜沉積設備、光學檢測系統等核心工藝設備。

2021年8月，在中國半導體行業被制裁之際，華為將該部門剝離，由深圳市國資委通過深圳市重大產業投資集團重組，成立深圳市新凱來技術有限公司。新凱來注冊資本15億元，實繳資本5億元，核心技術團隊以獨立企業的形式加速市場化落地，是一家名副其實的"國家隊"企業。

新凱來股權架構，圖片來源：天眼查

除了華為，新凱來的團隊還引入了另外兩方，與華為共同組成了一個“鐵三角”。

首先是華為系，以董事長余海為代表，團隊以擁有18年精密裝備研發經驗的骨干為核心，他們曾主導麒麟芯片封裝設備等核心項目。

然后是國際專家團隊，由來自包括ASML、應用材料、KLA等公司的高管構成，憑借其對EUV光學模塊等尖端技術標準的深刻理解，為研發方向提供關鍵指引。

最后是產業鏈人才團隊，多來自中芯國際，負責打通“設備-晶圓廠”的協同鏈路。

自成立以來，新凱來發展迅速。2025年3月，在SEMICON China展會上，新凱來首次公開亮相，一口氣展示了6大類、31款覆蓋芯片制造全流程的半導體高端制造設備，如外研沉積設備（EPI）“峨眉山”、刻蝕設備（ETCH）“武夷山”、化學氣相沉積設備（CVD）“長白山”、物理氣相沉積設備（PVD）“普陀山”、原子層沉積設備（ALD）“阿里山”等，引起行業高度關注。

有意思的是，新凱來所有設備均以中國名山命名，這被很多人解讀為“家國情懷”。

2025年9月4日，在無錫太湖國際博覽中心舉辦的第十三屆半導體設備與核心部件及材料展（CSEAC 2025）上，新凱來公布了亮眼的營收和客戶信息：在手訂單金額突破100億元大關，覆蓋國內80%的主流晶圓廠，客戶陣容涵蓋中芯國際、華虹集團、長江存儲、深圳鵬芯微等頭部晶圓廠，甚至成功向海外晶圓廠銷售設備。

新凱來的百億訂單背后，是國產替代的迫切需求。2024 年中國半導體設備市場規模達496 億美元，但7nm及以下制程的國產化率近乎為0，而下游超50%的新建產能聚焦7nm+制程。其設備在沉積速率控制等核心參數上已接近國際水平，如“峨眉山”外延設備實現了±1%的精度控制，相當于在頭發絲萬分之一尺度上繡花；

新凱來部分產品適用工藝、適用材料及核心優勢 資料來源：艾邦制造、新凱來、芯通社，制圖：甲子光年

目前，新凱來已形成以“名山系列” 命名的全產品線，覆蓋半導體前道制造全環節，被業內比作“北方華創 + 中微公司”的綜合體。這種“全流程覆蓋”的產品策略在半導體設備行業極其罕見，即使是國際巨頭ASML、應用材料等公司，也主要聚焦于特定的細分領域。

新凱來這種“大而全”的產品布局，既體現了其技術實力，也反映了中國在半導體設備領域“全面追趕”的戰略需求。

2.填補國產空白：啟云方發布自主EDA設計軟件

在本次灣芯展上，新凱來子公司武漢啟云方科技有限公司發布的兩款國產EDA（電子設計自動化）軟件，是本次展會的一大亮點。

EDA（Electronic Design Automation，電子設計自動化）軟件是芯片設計的基石，被譽為“芯片之母”，廣泛用于芯片設計、芯片封裝以及PCB設計環節中。

簡單來說，EDA是幫助工程師設計電子產品“大腦”的軟件工具，可以幫助工程師用電腦畫電路板圖、模擬電路信號傳輸，甚至自動檢查設計錯誤。如果把電子產品比作一棟大樓，EDA就像是建筑設計師的CAD軟件，能讓工程師高效規劃每一個電路細節，確保最終產品穩定運行。

作為電子產品設計過程中不可缺少的重要一環，啟云方自主可控電子工程EDA產品的推出，解決了國內半導體及電子工業軟件重要短板，成為行業自主化發展的重要里程碑。

長期以來，EDA軟件市場被新思科技（Synopsys）、楷登電子（Cadence）和西門子（Siemens）高度壟斷，三家企業合計占據了全球超70%的份額。這些企業技術沉淀深厚，支持3nm/2nm等先進制程，工具鏈覆蓋設計、仿真、驗證、制造全流程。

中國企業在這一領域一直處于追趕狀態，尤其是在高端電子工程設計軟件方面，國產化率極低。

國內EDA軟件雖有華大九天、概倫電子等龍頭企業，部分產品也可支持5nm工藝、模擬電路設計全流程能力也較強，但數字電路的領域領域仍需完善，先進制程支持相較于國外巨頭仍然滯后。一旦被國外“卡脖子”，后果嚴重。

啟云方此次發布的兩款擁有完全自主知識產權的全國產電子工程EDA（原理圖和PCB）設計軟件，無疑是在“卡脖子”環節上的一次重要突破。據介紹，啟云方電子工程EDA設計軟件在電子電路設計重要指標方面（如：超大規模、超復雜、并行設計、智能輔助等）已達業界一流水準，產品性能較行業標桿提升30%，

圖片來源：啟云方發布會直播

具體而言，該軟件支持多人并行協同設計、隨時隨地在線檢視，可以將產品硬件開發周期縮短40%、將智能輔助設計一板成功率提升30%，全面提升作業效率和質量。這對于需要快速迭代、多團隊協作的現代電子產品設計來說，意義重大。

圖片來源：啟云方發布會直播

啟云方的EDA軟件發布，代表了新凱來在半導體產業鏈布局上的進一步延伸。如果說此前新凱來主要聚焦在半導體制造設備領域，那么通過啟云方進入EDA工具領域，則意味著新凱來開始向產業鏈上游的設計環節滲透，形成“設計工具-制造設備”的協同布局。

雖然未經證實，但新凱來在某種程度上繼承了華為“星光工程部”的基因——不僅要解決制造環節的“卡脖子”問題，更要在設計工具等更上游環節實現自主可控，構建完整的技術體系。

3.打破《瓦森納協定》封鎖：萬里眼發布90GHz超高速示波器

除了EDA軟件，新凱來另一家子公司深圳市萬里眼技術有限公司發布的超高速實時示波器同樣令人矚目。

示波器是電子測試測量領域的核心儀器，被稱為“電子工程師的眼睛”。而超高速實時示波器則是其中的頂級產品，主要用于高速數字電路、高速通信系統、光通信、半導體測試等前沿領域。長期以來，這類高端測試儀器市場被美國泰克(Tektronix)、是德科技(Keysight)等公司壟斷。

圖片來源：萬里眼發布會直播

更重要的是，高速ADC(模數轉換器)是超高速示波器的核心部件，這類產品受《瓦森納協定》影響，對中國禁運。這意味著中國企業即使有設計能力，也難以獲得關鍵元器件來制造高端示波器。

萬里眼發布90GHz超高速實時示波器，圖片來源：灣芯展

據工作人員介紹，萬里眼發布的這款90GHz超高速實時示波器，每通道均支持90GHz寬帶信號采集，每通道獨立支持200GSa/s采樣率；每通道最高支持4Gpts深存儲，支持實時、分段、高分辨率、峰值檢測等多種采集模式。從性能參數來看，90GHz的帶寬僅次于國際上最高的110GHz（由是德科技等廠商提供），據工作人員稱，該產品性能“目前達到全國第一，全球第二的水平”。

圖片來源：萬里眼發布會直播

該產品可應用于半導體行業、6G通信、光通信、智能駕駛等領域。在半導體測試方面，隨著芯片工作頻率越來越高、數據傳輸速率越來越快，對測試設備的帶寬要求也水漲船高，而萬里眼示波器90GHz的帶寬能夠滿足當前先進芯片的測試需求。

圖片來源：萬里眼發布會直播

在6G通信領域，未來的通信頻段將進一步向高頻擴展，萬里眼的90GHz示波器為6G技術研發提供了重要的測試工具。在光通信領域，隨著400G、800G甚至更高速率光通信系統的發展，對測試設備的要求也在不斷提升，萬里眼的這款示波器產品打破了國外的壟斷，實現了多代產品的跨越，是在《瓦森納協定》的封鎖下通過自主創新突破關鍵核心技術的典型案例。

萬里眼示波器的發布，不僅填補了國產高端測試儀器的空白，也為中國在相關領域的技術發展提供了重要支撐。更重要的是，它證明了中國在高端測試儀器領域完全有能力達到國際先進水平，甚至在某些方面實現超越。

值得一提的是，萬里眼還將這款示波器定位為“全球首個超高速智能示波器”和“全球首個全面屏示波器”，在產品的智能化和用戶體驗方面都有所創新。這種創新思路體現了中國企業不僅要在技術指標上追趕國際先進水平，更要在產品理念和用戶體驗上實現超越的雄心。

4.新凱來會成為中國的ASML嗎？

在全球半導體產業鏈中，荷蘭ASML無疑是最耀眼的明星。這家公司占領了全球高端光刻機市場，其EUV（極紫外光）光刻機是制造7nm及以下先進制程芯片的必需設備。ASML的EUV光刻機重達180噸，售價超2億美元，集全球科技大成，代表了人類工業制造的巔峰水平。

面對西方國家對中國的芯片封鎖，國人自然希望中國能夠出現一個“ASML式”的企業，在光刻機這個最關鍵的“卡脖子”環節實現突破。因此，每當新凱來亮相展會，總會引發“中國ASML”的聯想和期待。

那么，新凱來會成為中國的ASML嗎?

從目前的情況來看，答案既是肯定的，也是否定的——這取決于我們如何理解“中國的ASML”這個概念。

首先需要明確的是，新凱來的戰略定位并非聚焦于光刻機。

新凱來工藝裝備產品線總裁杜立軍曾在華為工作多年，是一位“研發老兵”。在今年Semicon China同期舉辦的IC產業鏈國際論壇-制造設備與制程分論壇上，杜立軍發布了題為《半導體工藝裝備的機遇與挑戰》的演講。

杜立軍在演講中提到：“每一代半導體器件的演進，圍繞著PPAC的性能指標的提升。隨著行業進入到先進工藝時代，半導體制造行業主要圍繞著晶體管的尺寸微縮和RC delay這兩個方面來解決問題。”

他表示，進入先進工藝時代后，半導體制造行業主要有四大問題：

外延工藝需在更小、更深的結構中精準控制材料生長位置、摻雜濃度與表面形貌；

刻蝕技術面臨更精細、更復雜三維結構和超高深寬比的極限挑戰；

薄膜沉積必須實現多種新材料在復雜地形上的均勻覆蓋與高選擇性刻蝕；

金屬互連和原子層沉積亟需突破更小尺寸下的電阻、電容及成膜質量瓶頸。

杜立軍表示，針對上述問題，主要有三個解決路徑，分別是新材料、先進光刻+非光補光和3D架構。尤其是在面臨當前先進光刻機在國內被禁的現狀，非光補光的重要性不言而喻。諸如多重曝光、自對準和選擇性沉積等技術，就是為了突破這個桎梏而做的選擇。

“然而，因為這些技術的應用，會在先進工藝演進中，給流程工藝通道增加20%，進而給良率和設備的工藝窗口等帶來新的考驗。”杜立軍接著說。“于是，我們需要圍繞著更高的能量控制精度（等離子體/自由基精準控制）、更快的硬件響應速度（氣體/能量控制快速切換）和更大的工藝窗口（腔體環境快速穩定）來打造新裝備技術。”杜立軍說。

如果把杜立軍的演講翻譯成更加通俗易懂的語言，或許可以這樣理解：既然我們短期內拿不到最頂級的“相機”（EUV光刻機），那我們就把現有的“相機”（DUV光刻機）用到極致，然后把全部精力投入到“暗房技術”（刻蝕、沉積）的精進上，通過極其復雜的后期處理，洗出同樣精度的“照片”。

新凱來目前公布的業務版圖里，覆蓋了刻蝕、薄膜沉積、量測三大關鍵領域，唯獨沒有那個萬眾期待的“光刻”。雖然新凱來子公司上海宇量昇科技正負責研發深紫外（DUV）光刻機，但DUV與EUV在技術路線上存在代際差異。

使用EUV光刻，制造一個關鍵電路層可能只需要一次曝光，干凈利落。而使用DUV光刻加上多重曝光技術（比如SADP/SAQP），則需要在“光刻-刻蝕-沉積-再刻蝕”的循環中，增加幾十個甚至上百個步驟。這個過程，每增加一步，都意味著生產周期的延長、成本的增加，以及引入致命缺陷的風險指數級上升。這筆高昂的代價，行業內稱之為“工藝稅”。

誰來支付這筆巨稅？答案是新凱來和它背后的“國家隊”。

新凱來的刻蝕機，就是那把能精確剔除多余材料的“刻刀”；它的原子層沉積(ALD)設備，就是那支能均勻涂覆納米級“側墻”的“畫筆”；它的量測設備，則是在這上百個繁復步驟中，確保每一層電路都能像高樓大廈一樣完美對齊的“激光水平儀”。

從技術角度看，中國在短期內(10~20年)要制造出與ASML競爭的EUV光刻機，面臨巨大挑戰。根據高盛的研究報告，從65nm到3nm以下需要20年，需重構一個囊括頂尖光學、超高功率激光、皮米級精密制造的全球供應鏈。為達成這??標，需新增2261臺光刻系統，其中包括212臺EUV 光刻設備，相應的研發投?以及資本?出預計將?達400億美元。

《China capex continues to grow;migration ongoing despite challenges》，圖片來源：Goldman Sachs

因此，如果將“中國的ASML”狹義理解為“在光刻機領域復制ASML的成功”，那么新凱來顯然不是，也不打算成為這樣的企業。

然而，如果我們將視角放寬，從ASML在全球半導體產業鏈中的地位和作用來理解“中國的ASML”，那么新凱來確實具有這樣的潛力。

ASML的價值不僅在于它制造了世界上最先進的光刻機，更在于它在半導體制造設備領域的體系化能力——整合全球供應鏈、協調上下游生態、推動技術標準演進。

從這個角度看，新凱來正在成為中國半導體設備領域的“總集成商”和“生態構建者”。這是一條“用空間換時間”的現實主義路線，新凱來通過以下四大能力支撐這一宏大戰略。

第一，全流程設備覆蓋能力。 新凱來是國內極其罕見的能夠提供除光刻機外，覆蓋擴散、刻蝕、薄膜沉積、量測等幾乎所有核心環節設備的廠商，可以為晶圓廠提供一站式解決方案。

第二，強大的產業鏈整合能力。 新凱來繼承了華為世界級的系統工程與供應鏈整合能力，扮演著國家級“總集成商”的角色，將國內產學研的零散成果，整合成能進入晶圓廠穩定運行的“裝備軍團”，并帶動了利和興、新萊應材等一批上游供應商共同成長。

第三，非對稱的技術路線創新。 新凱來與華為聯合申請的SAQP（自對準四重成像）專利，正是在“F1賽道”（EUV）被禁賽后，選擇在“達喀爾拉力賽”（DUV多重曝光）上做到極致的體現。這條路線覆蓋了全球90%以上的芯片需求，為中國在絕大多數芯片領域實現自主可控提供了基礎保障。

第四，過硬的市場驗證與商業化能力。 新凱來的設備已在國內主流晶圓廠得到驗證，其刻蝕設備在中芯國際14nm產線的良率穩定在92%。

回到最初的問題：新凱來能成為中國的ASML嗎？

更準確的答案或許是：ASML和它的EUV生態，像一棵需要全球氣候滋養的參天巨木。而新凱來和它的伙伴們，則致力于將整片山坡改造成一片能適應本土氣候、盤根錯節的茂密叢林。短期內，叢林的高度無法企及巨木，但假以時日，誰的生命力更頑強，尚未可知。

新凱來的出現，揭示了中國半導體產業突圍的另一種可能：勝利不取決于單兵最強戰力，而取決于整個作戰體系的韌性和協同能力。當外界還在爭論中國何時能造出“紅衣大炮”（EUV）時，中國已經悄悄構建了一套由無數“精準步槍、迫擊炮、偵察兵”協同作戰的現代化體系。

新凱來，就是這個體系的軍火庫和作戰指揮中心。

所以，一個更值得思考的問題是：當中國不再需要ASML時，那將是一個怎樣的世界？新凱來，就是這個未來投下的一道最清晰的影子。

（封面圖來源：灣芯展）